高纯度放电式臭氧水供应装置

    HYZON MAX

    HJS的HYZON MAX应用于半导体、FPD清洗工艺并提供高纯度臭氧水的装置。
    用于产生氧化膜、去除有机物、METAL和PARTICLE等目的,是一种可以代替传统化学药品清洗的环保装置。
    HYZONMAX可提供各种范围的臭氧水浓度和流量,满足用户的各种需求。
    HYZON MAX用于半导体、FPD清洗工艺,在众多终端客户和设备供应商拥有应用案例

    特征

    • 应用于半导体、FPD清洗工艺并提供高纯度臭氧水的装置
    • METAL IMPURITY, PARTICLE FREE
    • 卓越的臭氧浓度控制能力:±5% of Full Scale
    • 实现MAINTENANCE的简化及维护费用的降低
    • 可通过多种型号的提供来满足客户的需求
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