인산공정 안정화 장비
NIETOP SYSTEM
HJS 의 NIETOP은 반도체 WET ETCH 공정 중 까다로운 공정 중의
하나인 질화막(Nitride)
제거 공정용으로 개발된 시스템입니다.
인산(H3PO4) Bath의 안정적인 온도 제어와 안정적인 Boiling 상태로
만들어 뛰어난 선택비와 Uniformity를 제공하고,
Chemical
교체 주기를 연장 시켜주는 시스템 입니다.
NIETOP은 반도체 세정 공정 용으로 다양한 고객사와 세정 장비사의
다수의 납입 실적을
보유 하고 있습니다.
특징
- 탁월한 선택비
- 뛰어난 Etching Uniformity 실현
- 빠른 Etching 속도로 Capa Up 가능
- 안정적인 인산 Bath 온도 CONTROL
- 인산 교환 주기 연장으로 Running Cost 절감
NIETOP LINE UP
| Wafer | 200 mm | 300 mm | |||
| Bath | 1 Bath | 2 Bath | 1 Bath | 2 Bath | |
| Model | NIETOP-200S | NIETOP-200D | NIETOP-300S | NIETOP-300D | |
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Etching Rate와 Selectivity 관계
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Etching Rate와 Particle 관계
